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2024年6月11日 之所以碳化硅成为第三代宽禁带半导体材料，因为其在禁带宽度、击穿电场、热导率、电子饱和速率等方面展现出显著优势，也因为其在高温、高压、高频领域的优异表现。 超高纯、类球形 3CSiC微粉（来源：晶彩材料） 半导体案例 1、SiC具有约326 eV的宽带隙（相比于硅的112 eV）；约 49 W/cmK 的热